ASML霸气发声:现有技术能让光刻机进入1纳米时代

近日,ASML中国官方在一篇微信推送内容中表示“创新,让摩尔定律重焕光彩”。

该推文中有一句话让人印象深刻,那就是ASML表示:在元件方面,目前的技术创新足够将芯片的制程推进至至少1纳米节点,其中包括gate-all-around FETs,nanosheet FETs,forksheet FETs,以及complementary FETs等诸多前瞻技术。

不过1nm虽然目前还未实现商用,但确实不是各大芯片厂商的重点,纳米时代结束后,将会进入埃米时代,台积电、Intel等都制定了雄心勃勃的埃米工艺早期路线图,为下一个时代做准备。

 


posted @ 22-06-04 02:16  作者:admin  阅读量:
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